高纯六氟化硫气体是我国科研、生产等许多部门急需的特种气休,在半导体工业巾用于等离子蚀刻工艺,在光导纤维制造中用作隔离层掺杂剂。高纯SF6气体还是重要的激光材料,在其它领域也有重要用途。

　　另外，高纯六氟化硫在常温常压下呈气态，装瓶后为高压液体。无色、无臭、无毒、不燃。具有良好的化学稳定性和热稳定性。

　　高纯六氟化硫主要用于半导体工业中作清洗气体。六氟化硫的成本只有NF3的几分之一，近年来，各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。

　　该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时，还显示出了***的环保前景，近年来用量有明显的提高。

　　由此可见，近年来,黎明六氟化硫在许多生产技术领域中,越来越显示出它的重要性。高纯六氟化硫(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，而且附加值较高。

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